第2268章

国家超导约束聚能研究所。

光源实验室。

距上次euv光源功率实现35w稳定输出功率后，后续的各项验证性实验，也是进展颇为顺利。

不过，李阳明白。

要想搞出最先进的光刻机，且满足以后更多的研究，单单是这个成绩，还是远远不够的。

所以，在确定35w的输出功率没有任何问题后，他便组织团队的成员，继续开展功率提升任务。

此刻。

实验室里，各项任务正如火如荼的进行着。

研究员们一边紧张的进行实验，一边实时汇报情况。

“报告！功率提升至36w，束流散射角超标！”

“37w！散射角持续扩大，聚焦稳定性骤降！”

“不行，38w无法维持，束形完全发散！”

随着功率的提升，实验开始失控，研究员的声音，多了一抹紧张与不安。

而此时，屏幕上代表粒子束流的红色光点原本凝聚如针，此刻却像被无形之手揉碎，扩散成模糊的光斑。

“将数据投屏到大屏幕。”

曹启东吩咐道。

团队的研究员，立刻把数据同步投射在中央大屏。

高倍电子显微镜下，覆盖在关键光学元件表面的石墨烯涂层，其完美的六角晶格在持续的高能粒子轰击下，正发生微小的扭曲与错位。

“晶格畸变！”

曹启东指着分析图，语气沉重。

“粒子束流能量超过阈值，轰击导致石墨烯局部晶格热应力失衡，几何结构发生纳米级改变。”

“这直接破坏了它对入射粒子的精确导向能力，散射角自然失控。”